钽靶 钽靶才 钽溅射靶材 用于蒸发镀膜

钽靶材

用途：主要应用于半导体镀膜和光学镀膜。
 
纯度：99.95%～99.99%。

规格：方靶材，厚度x宽度x长度=5～25x≤800x≤2000（mm）


晶粒度：再结晶程度≥98%，平均晶粒度1

00μm或者<50μm要求。

平面度≤0.2mm。

表面粗糙度<1.6μm。